朗道辉光

10.6

µm波长

KW功率

+/-0.5

°C恒温冷却器

节约能量

在额定功率下的功率输出稳定 ± 2 %

可连续调整的功率范围 160 W - 3000 W

标准光束质量 (K / M²) 0.55 / 1.82

可选光束质量 (K / M²) 0.9 / 1.11

可调整的脉冲时间 10 µs … cw

激光束发生器尺寸（宽 x 高 x 深） 1120 mm x 640 mm x 1120 mm

高频发生器和控制系统尺寸（宽 x 高 x 深） 1500 mm x 2100 mm x 860 mm

在额定功率下的功率输出稳定 ± 2 %

可连续调整的功率范围 500 W - 10000 W

标准光束质量 (K / M²) 0.55 / 1.9

可选光束质量 (K / M²) -

可调整的脉冲时间 10 µs … cw

激光束发生器尺寸（宽 x 高 x 深） 1120 mm x 640 mm x 1120 mm

高频发生器和控制系统尺寸（宽 x 高 x 深） 3000 mm x 2100 mm x 860 mm

在额定功率下的功率输出稳定 ± 2 %

可连续调整的功率范围 1000 W - 20000 W

标准光束质量 (K / M²) 0.22 / 4.5

可选光束质量 (K / M²) -

可调整的脉冲时间 10 µs … cw

激光束发生器尺寸（宽 x 高 x 深） 1670 mm x 1080 mm x 1500 mm

高频发生器和控制系统尺寸（宽 x 高 x 深） 5200 mm x 2100 mm x 860 mm

成立于2024年，创始人王豪博士及其团队以清华大学王教授/气体放电等离子体实验室的研发成果为基础，聚焦半导体制造核心技术——EUV光刻光源。

朗道科技现阶段在研产品为轴快流CO2激光器（3kW），作为EUV驱动光源；同时开发了等离子体工业仿真软件，以支持EUV光源功率放大。

朗道将以激光诱导等离子体LPP路线为阶段性目标，逐步攻克高功率高重频脉冲激光器（20kW）、超声微液滴发生技术、激光自动对准技术、EUV光源、真空腔体、等离子体仿真计算等，最终实现完全自主可控的最新一代EUV光刻机光源技术。