光刻：一场追求极致微小的盛大冒险
人类文明向上探寻寰宇星辰，向下求索微观世界
（俄文：Лев Давидович Ландау，英文：Lev Davidovich Landau）
即使是不接触物理学的人，往往也不会对这个名字感到陌生。
朗道出生于 1908 年前苏联巴库的一个犹太分子家庭，少年神童，早早在人才济济的前苏联理论物理界崭露头角，毕业后曾游历欧洲，遍访物理界泰斗。朗道一生的工作涵盖了理论物理几乎所有分支。朗道霍尔流体理论、朗道能级、朗道阻尼、朗道抗磁性、朗道-金兹伯格理论……他的名字遍布从流体力学到量子场论的各个领域，他对等离子体、凝结物理、高能量和粒子物理学、流体动力学、天体物理学等所有物理领域都产生了巨大影响，盛誉加身，光前裕后。
杨津基教授 1916 年出生于江苏省嘉定县（现属上海市），1941 年获德国柏林工业大学工程硕士学位。曾任西南联大、清华大学教授。清华大学电机系高电压技术教研组主任。2013 年于北京逝世。
杨教授是我国最早的高电压技术研究者之一，1956 年在清华大学建立了我国最早的高电压技术专业。杨教授从六十年代初期就开始从事脉冲电学和等离子体焦点技术研究，长期主持高电压技术教研组和气体放电实验室，编著的《气体放电》是国内第一本相关专业教材。
气体放电与等离子体是高压专业方向之一，杨教授作为先驱者，在清华培养出了一大批相关人才，前辈衣钵，薪尽火传。
清华大学开始气体放电等离子体研究
王新新教授发表中国首篇EUV研究相关论文
建立等离子体均匀放电理论/帕邢定律相关问题的研究/大气压气体中电子碰撞电离系数的测量获科技进步奖
建立高速成像研究方向/大气压辉光放电的机理研究/产出高水平论文
开发X射线相祯成像技术获教育部高校科学研究优秀成果奖（自然科学奖）二等奖
深入研究等离子体诊断/郎缪探针/微放电/射频放电数值解
开发超声波微液滴技术/同步触发/高功率脉冲技术领域的变阻抗传输线研究
自研等离子体仿真软件/亚纳秒气体开关中气体击穿特性的研究/纳秒脉冲激光等离子体诊断EFISH/准分子激光器
| 时间段 | 技术发展 |
|---|---|
| 2015-2017 | 射频放电、等离子体诊断、真空技术 |
| 2017-2018 | 微液滴发射与控制、光谱诊断 |
| 2018-2019 | 同步触发、高速成像 |
| 2019-2021 | 高重频脉冲高压电源、纳秒脉冲激光器 |
| 2020-2023 | 多孔介质放电理论建立、等离子体仿真软件 |
| 2023-2024 | LPP-EUV光源原型机、高功率气体激光器 |
朗道科技是国内领先的LPP-EUV光源制造商，公司的主营业务是研发、生产和销售用于半导体光刻技术的高功率LPP-EUV光源。该光源对于制造最先进的半导体芯片，以及EUV生态系统如光刻胶和掩膜检测设备的发破性发展至关重要。朗道自成立起一直致力于研发面向半导体光刻大规模生产的激光等离子体极紫外光源（LPP-EUV），技术迭代升级过程中，公司积累的在研产品包括高功率短脉冲CO2激光器和等离子体工业仿真软件，两者的发展和成熟对于未来高功率、强稳定性和长寿命的LPP EUV光源具有里程碑意义。
由创始人王博士带队的研发团队代表着朗道科技的核心竞争力。团队成员主要来自以清华大学、中国科技大学、重庆大学等为代表的985高校的物理、光电、电子和计算机等专业，拥有着专业扎实的基础物理和数学知识，并且在创新学习中积累了深厚的光电工程经验。该项目目的研发团队集结了多位光学工程师、电气工程师、软件工程师、等离子体模拟计算、算法工程师，他们在具有极强的专业技术背景的同时保持着年轻活力和旺盛的学习与创新能力，不断推动光源项目的研发进展。
有着专业发展的供应链管理理技术，团队成员拥有着极强的大数据分析和产业深度调研能力，深入研究半导体产业上下游的零件生产动向和材料供应情况，对产品的研发和运行工程化、产品化进展极致分析。
主要配合技术团队对企业形象和商业化路线制定和实施发展方案。品牌团队拥有着专业的技术人才，掌握着先进的技术手段，在新兴半导体制造用面向未来的光刻定制精准的品牌路略，提升企业知名度，建立强大的品牌形象。
综合部由财务、人力行政管理三大板块组成，主要负责公司的内部运营和日常管理。团队内成员掌握现代的信息化管理手段确保公司高效、安全、合规地运营，同时，各部适时地为公司的人力资源管理、包括招聘、培训等工作，为公司创建人才库。
成立于2024年，创始人王豪博士及其团队以清华大学王教授/气体放电等离子体实验室的研发成果为基础，聚焦半导体制造核心技术——EUV光刻光源。
朗道科技现阶段在研产品为轴快流CO2激光器（3kW），作为EUV驱动光源；同时开发了等离子体工业仿真软件，以支持EUV光源功率放大。
朗道将以激光诱导等离子体LPP路线为阶段性目标，逐步攻克高功率高重频脉冲激光器（20kW）、超声微液滴发生技术、激光自动对准技术、EUV光源、真空腔体、等离子体仿真计算等，最终实现完全自主可控的最新一代EUV光刻机光源技术。
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